ADI AEI ASI
「ADI AEI ASI」熱門搜尋資訊
「ADI AEI ASI」文章包含有：「8"WaferLoader」、「CN101963752A」、「FAB术语缩写」、「NikonOST」、「[心得]半導體黃光製程工作內容分享-4」、「半導體中ADICD是什麼的縮寫資訊整理」、「半導體＆ETCH知識，你能答對幾個？」、「智慧製造」、「根据整体图案密度所实施的罩幕关键尺寸的校正」、「臨界尺寸量測方法最佳化之研究」
查看更多
8 " Wafer Loader
https://www.lin.com.tw
OPTISTATION V 8 ” WAFER 自動晶片檢查站. ‧ APPLICATION FOR ADI/AEI/AFI/ASI ‧ ‧ ADI ： Inspection after Developing ‧ ‧ AEI ： Inspection after Etching
CN101963752A
https://patents.google.com
要说明的是，以上的ADI、AEI、ASI步骤属于现有技术，是否需要进行测量、是否需要根据经验进行补充蚀刻、补充蚀刻的蚀除量由技术人员根据基台精度、光罩材料等条件，由经验 ...
FAB 术语缩写
https://blog.csdn.net
ADI: After Develop Inspection 显影后检测. AEI: After Etch Inspection 蚀刻后检测. BKM: Best Known Method. REM: Remove. FOUP: Front Opening ...
Nikon OST
https://www.lin.com.tw
The OST-3200 manual ADI is number 1 market share in Taiwan.It is cause by high reliability, low C.O.O and multi-function and user friendly.
![[心得] 半導體黃光製程工作內容分享-4](https://api.multiavatar.com/%5B%E5%BF%83%E5%BE%97%5D+%E5%8D%8A%E5%B0%8E%E9%AB%94%E9%BB%83%E5%85%89%E8%A3%BD%E7%A8%8B%E5%B7%A5%E4%BD%9C%E5%85%A7%E5%AE%B9%E5%88%86%E4%BA%AB-4+-+%E7%B2%BE%E8%8F%AF%E5%8D%80Tech_Job.png?apikey=viVnb6N20jclO8){kind=avatar}
[心得] 半導體黃光製程工作內容分享-4
https://www.ptt.cc
photo完的結果叫做ADI (after develop inspection),etch完叫做AEI (after etch inspection).與etch開會時,一但AEI的結果不好,etch的大絕招就是AEI ...
半導體中ADI CD是什麼的縮寫資訊整理
https://file007.com
半導體中ADI CD是什麼的縮寫資訊整理. ADI用語是在於半導體微影製程中，A 代表AFTER ，D 代表DEVEROPER (加ed)，I 代表INSPECTION ，其實還有AEI，其中E代表ETCHER(ed)。
半導體＆ ETCH 知識，你能答對幾個？
http://ilms.ouk.edu.tw
測蝕刻速率時,使用何者量測儀器? 答：膜厚計,測量膜厚差值. 何謂AEI. 答：After Etching Inspection 蝕刻後的檢查. AEI目檢Wafer須檢查哪些項目: 答：(1) ...
智慧製造
https://www.v5.com.tw
我們的系統支援在線ASI、ACI、ADI、AEI、APDI、API、ASTI 檢測和測量以及離線分析。 more... V5 光學檢測設備智慧自動化升級. V5 OM 自動化升級解決 ...
根据整体图案密度所实施的罩幕关键尺寸的校正
https://patents.google.com
此外，在显影后检视(After-Development Inspection；ADI)、蚀刻后检视(After-Etching Inspection；AEI)及阻层去除后检视(After-Stripping Inspection；ASI)中的图案特征随 ...
臨界尺寸量測方法最佳化之研究
https://ir.nctu.edu.tw
一、AEI CD 變異受CD 大小與蝕刻機台穩定性影響。 二、蝕刻後CD 大小已固定，無法再做修正。 對半導體製程而言，ADI CD 的控制上，遠比AEI CD 重要，故本研究. 將著重在 ...